Textul licitației

ng materials: Al2O3, TiO2, ZnO, In2O3, SnO2, NiOx, SiO2 and HfO2, with the option to easily switch to different materials, such as nitrides like AlN and TiN and metallic layers like Pt and Ru. 1 plasma enhanced atomic disposition systemIdentificatorul procedurii: c3425db7-e089-4688-a8a2-5378624c623cTip de procedură: DeschisăProcedura este accelerată: nuPrincipalele caracteristici ale procedurii: European Open procedure2.1.1. ScopNatura contractului: BunuriClasificarea principală (cpv): 38000000 Echipamente de laborator, optice şi de precizie (cu excepţia ochelarilor)2.1.2. Locul de executareȚara: Ţările de JosOriunde în țara respectivăInformații suplimentare: Amsterdam2.1.3. ValoareValoarea estimată fără TVA: 550 000,00 EUR2.1.4. Informații generaleTemei juridic: Directiva 2014/24/UE2.1.6. Motive de excludereMotive de excludere pur naționale: Exclusion grounds are defined in the procurement documents or in TenderNed5. Lot5.1. Lot: LOT-0000Titlu: Plasma enhanced atomic layer dispositionDescriere: The Pro