Textul licitației

enta di produrre un’ampia gamma di materiali funzionali avanzati, con stechiometria controllata, in forma di film sottili depositati su un substrato, sfruttando il plasma creato da un laser pulsato ad alta energia che colpisce uno o più target. Il sistema dovrà essere predisposto per un doppio sistema laser (uno nel regime dei ns e l’altro dei fs) e un sistema RHEED (Reflection high-energy electron diffraction) che verranno acquisiti in seguito, direttamente dai produttori A) Requisiti fondamentali minimi della strumentazione richiesta sono quindi: Camera di deposizione PLD con misure minime nelle tre direzioni di 40 cm in acciaio inox provvista di porta per ispezione ottica, predisposizione flangia per la connessione di una precamera di carico scarico campioni e target Load-Lock senza interruzione del vuoto. Tale precamera consentirà la manipolazione di target e substrati senza alterare né contaminare l’interno della camera di deposizione. Sistema variazione distanze substrato-target con distanza minima nel range 3-5 cm. La possibilità di variare tale parametro consente di ottimizzare il processo di deposizione in base al materiale d’interesse e alle condizioni al contorno necessarie per i diversi processi. La strumentazione dovrà disporre di almeno n. 2 flange aggiuntive in acciaio inox adatte ad alloggiare la fu